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繪過程重要經(jīng)常使用到涂層測(cè)厚儀
來源：m.annstill.com | 發(fā)布時(shí)間：2024年09月24日1、在同一點(diǎn)重復(fù)測(cè)量時(shí)，每次將探頭離開10cm以上，間隔幾秒鐘后進(jìn)行測(cè)量，避免探頭磁化后被測(cè)材料影響下一次測(cè)量結(jié)果；
2、使用時(shí)，平面調(diào)零測(cè)平面，凸面調(diào)零測(cè)凸面，凹面調(diào)零測(cè)凹面，避免因結(jié)構(gòu)不同而產(chǎn)生測(cè)量誤差；
3、盡量使用被測(cè)材料作為調(diào)零基體，避免因不同材料導(dǎo)磁性不同而產(chǎn)生測(cè)量誤差；
5、零表面應(yīng)盡可能光滑；被測(cè)材料表面的粗糙度對(duì)測(cè)量值影響很大。如果表面不光滑，應(yīng)根據(jù)情況取平均值；
6、在測(cè)量過程中，探頭應(yīng)與被測(cè)表面保持垂直，否則會(huì)產(chǎn)生較大的誤差。
一些測(cè)量的材料也有剩余的磁場(chǎng)。而且容易分布不均勻，導(dǎo)致測(cè)量誤差不同，這在使用涂層測(cè)厚儀時(shí)也需要注意。
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